磁流变抛光机床被誉为光学制造的革命性技术，能快速获得数十纳米的高精度面形和1纳米以下的表面质量，可使光学元件的加工精度与生产效率得到突破性提升，在国家重大光学工程建设以及民用高端光电产品开发等方面具有十分广阔的应用前景。项目单位成功研制了三种不同规格的磁流变抛光机床、两种不同类型的磁流变抛光液与一套高确定性抛光工艺软件，满足了K9及FS两类材料的高效率、超光滑与低缺陷抛光需求，具备了大口径平面、非球面及连续位相板的超精密制造能力，相关技术成果及指标达国内领先水平。

图1 PKC-1000Q2型磁流变抛光机床

图2 PKC-1200Q1型磁流变抛光机床

图3 PKC-100P1型磁流变抛光机床